Sie befinden sich hier: Solmic - Hardware

 

  
Lab & Trainings CVD Reaktor
  • Plug & Play
  • Easy to use and run
  • High degree of automation
  • Analytic tool for quality control
  • Training equipment for operators

 


Specification

quartz tube
operation pressure ~1,5 barg
reaction temperature ~ 1150 C
molar ratio (H2 / TCS) 4...5  
rod length 2 x 20 cm
slim rod diameter 8 x 8 mm
final rod diameter ~ 18 mm
process gas flow (H2/TCS) ~ 300 l/min
liquid TCS consumption ~ 20 kg/cycle
deposition time ~ 14 h
total cycle time ~ 16 h
   
 
CVD – Siemens - Reaktor
Im CVD-Verfahren, der Chemical Vapor Deposition, wird Silizium aus der Gasphase ausgeschieden. Als Ausgangsmaterialien werden Wasserstoff (H2) und hochreines Trichlorsilan (TCS) eingesetzt, die bei hoher Temperatur und hohem Druck zu Silizium reagieren.

Mehr Informationen unter http://www.centrotherm-pv.de
 
STC - TCS Konverter
Der Konverter wandelt das im CVD-Prozess entstehende Siliziumtetrachlorid in Trichlorsilan um, welches wieder dem Prozess zugeführt wird (geschlossener Kreislauf).

Mehr Informationen unter http://www.centrotherm-pv.de

 
 
in Planung/Entwicklung
  • Dünnstab–Schweißanlage
  • Dünnstab-Säge
  • Schmelzöfen
  • Vent Gas Recovery